- 模拟电子系统设计指南(基础篇):从半导体、分立元件到TI集成电路的分析与实现
- 何宾编著
- 396字
- 2024-01-05 17:18:56
2.5 结电流密度
在P区x=-xp的边缘处,从N区流到P区的电荷产生的电子电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_6.jpg?sign=1739612901-KEciq7K5yioEPXJoifLjMfOWLOaIap5D-0-ef971c90c4aefa8127c8021ac9530414)
式中,Dn为少子电子的扩散密度;Ln为少子电子的扩散长度,其与 Dn及少子寿命 τno的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_7.jpg?sign=1739612901-zwgCKjy1SbNCRMzgyP6oQFPDS2PVusqM-0-9b809e70ebabc2b29eb1ab28d75ac5bd)
少子寿命定义为P区少子电子与P区多子空穴进行复合的平均时间。同理,在N区x=xn的边缘处,从P区流到N区的电荷产生的空穴电流密度表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_8.jpg?sign=1739612901-3Fxa2quLXCE9AoLq6Nwkro99zUQG4MTc-0-4232ac832db515226dfcbe2cb6e647fc)
Dp为少子空穴的扩散密度;Lp为少子空穴的扩散长度,其与Dp以及少子寿命τpo的关系为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_9.jpg?sign=1739612901-QMuMvS7nt973iTbSuRKpi3XHe3GPiydP-0-47a64ea70441a08ed335e8f17ae87c79)
因此,流过PN结的总电流密度为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/39_10.jpg?sign=1739612901-2NcCOliNLhADGe7dbjuK192ElzCFXASw-0-34a3913f16c5f56acd8cf0ea989196fe)
将此式写成更通用的形式:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_1.jpg?sign=1739612901-0Ayi33zyuPVqYkX2GyvO5FN7goYPVFOK-0-c4f5bf196971fd2509ba2d068b41c75b)
式中,参数J s为反向饱和电流密度,取决于PN结的物理参数,表示为
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_2.jpg?sign=1739612901-g6uaml8EAviBVFKkZDgwYDHr8z173XYN-0-4fc4acd631d83abf942940fea4f5f549)
式 (2.31) 即适用于正值 (正向偏置条件),也适用于负值 (反向偏置条件)。因此,二极管的电流等于电流密度JS与PN结横截面积Apn的乘积,表示为:
![](https://epubservercos.yuewen.com/A93590/26763633309316706/epubprivate/OEBPS/Images/40_3.jpg?sign=1739612901-DbkRHgVhzjzP6UrdofVAYWL8qrkEKVbL-0-3194caf89178befff6525a65ec0d1b97)
式中,IS为反向饱和电流;vD为施加的电压;η为常数,其范围1~2,与实际二极管的制造工艺有关。式 (2.33) 描述了肖特基势垒结的特性。
注:vD >0 为正向偏置条件,vD <0 为反向偏置条件。